電子半導(dǎo)體工業(yè)電子加速，光電器件，電子材料，射線(xiàn)管，晶體，繼電器，激光，離子注入裝置，離子蝕刻機(jī)，化學(xué)氣相沉積設(shè)備，物理氣相沉積裝置，分子束外延裝置，集成電路封裝，像其他半導(dǎo)體應(yīng)用。分別蒸發(fā)，濺射，PECVD，真空干蝕刻，真空抽吸，測(cè)試設(shè)備，漫游器，自動(dòng)真空清潔并在真空（高真空）所需的貼合工序等;室內(nèi)真空（低真空）;處理真空（低真空）的真空泵以及回流的部分在真空空間是零，為了從污染保護(hù)工件。技術(shù)工程師隊(duì)共享電子半導(dǎo)體行業(yè)應(yīng)用。
一，根據(jù)在真空中的分類(lèi)
用于生產(chǎn)真空（高真空）
1，主要由高真空采用真空，以減少工作空間中的空氣，保持清潔的工作空間內(nèi)產(chǎn)生，主要的類(lèi)型中使用的真空泵包括干（干式螺桿真空泵，爪泵）和它們的分子泵機(jī)組。
技術(shù)真空（粗真空）
2，主要技術(shù)真空負(fù)壓或抽吸，用于保持工件搬運(yùn)，螺桿泵，爪式泵，水泵和干泵，旋轉(zhuǎn)葉片泵，微螺桿泵。
真空清潔（粗加工）
3，大氣壓力和真空吸力以清除或輸送液體或顆粒，這樣的應(yīng)用主要是水環(huán)泵和多級(jí)離心式風(fēng)扇之間的清潔主要區(qū)別。
二，根據(jù)真空泵的類(lèi)型
早些時(shí)候，油泵真空泵在半導(dǎo)體工業(yè)型，高真空的主要特征是常用的，以滿(mǎn)足新的產(chǎn)業(yè)，旋轉(zhuǎn)式泵之間和往復(fù)泵為主要代表的特殊要求。因?yàn)樗麄儾荒鼙盟羝屠淠臍怏w和腐蝕氣體容易限制，而是用真空泵，以提高生產(chǎn)技術(shù)的發(fā)展，有利于清洗的;安全;穿;低成本;維修方便;性能穩(wěn)定;振動(dòng)小，干式真空泵的低噪聲的優(yōu)點(diǎn)，半導(dǎo)體工業(yè)，以滿(mǎn)足工藝要求。
1，圓裂片，爪式，模塊化（羅茨+爪式），螺桿。這些類(lèi)型廣泛地被不同的制造商使用。其中，所述瓣型，和模塊化爪（爪+根）被稱(chēng)為多級(jí)泵。操作方式是基本相同的，則重復(fù)氣體的壓縮來(lái)創(chuàng)建使用多級(jí)真空室中的真空。
三，根據(jù)真空系統(tǒng)
真空系統(tǒng)是由真空泵套，PLC的過(guò)程控制系統(tǒng)，圓柱體，真空管線(xiàn)，真空閥，過(guò)濾器組件的外部，和其他組件的真空系統(tǒng)。該系統(tǒng)被廣泛應(yīng)用于電子半導(dǎo)體工業(yè)中，光學(xué)光模塊，機(jī)械加工等行業(yè)。
四，半導(dǎo)體工業(yè)真空系統(tǒng)
電子半導(dǎo)體行業(yè)需要真空系統(tǒng)可分為三個(gè)層次。
1，在吸力下，空氣或空氣清潔條件僅含有排出水蒸氣一點(diǎn)。
2，在溫和條件下的排氣，將反應(yīng)氣體的其它提取方法，沒(méi)有固體顆粒。
3，在吸力下的苛刻條件，泵送化學(xué)反應(yīng)物（毒性和致癌甚至）和固體顆粒。
五，半導(dǎo)體真空泵的應(yīng)用安全事項(xiàng)
1，真空泵，以防止過(guò)熱：
這是比較容易理解，在半導(dǎo)體中的真空泵，更有害氣體的應(yīng)用，并且兩個(gè)干式真空泵或機(jī)械泵密封，泵室溫度過(guò)高，炸藥和在高溫下的有毒氣體將存在危險(xiǎn)。
2，注意氧在真空中的濃度：
空氣中的氧燃燒和爆炸的危險(xiǎn)可能發(fā)生在高濃度。在某些情況下，應(yīng)該注意的是氧氣的濃度，稀釋的惰性氣體，以防止?jié)舛冗^(guò)高;一個(gè)機(jī)械泵密封可能需要一些惰性的，與氧氣，真空泵油相容，并且更換油過(guò)濾器和油的假設(shè)。
3，一個(gè)半導(dǎo)體泵有效淡化的有害氣體的濃度：
半導(dǎo)體容易產(chǎn)生上述的炸藥，有毒有害氣體。因此，當(dāng)半導(dǎo)體真空應(yīng)用到提取這些媒體必須防止一些不可控它們?cè)谂艢膺^(guò)程或真空泵反應(yīng)。如的SiH4，PH3，砷化氫，B 2 H 6等物質(zhì)，當(dāng)與空氣或氧氣接觸可能引起爆炸或燃燒;氫燃燒可以發(fā)生在空氣的混合比和溫度達(dá)到一定的水平。的壓力的量取決于材料和環(huán)境溫度關(guān)系。萃取介質(zhì)期間用惰性氣體，如氮?dú)?。因此這些半導(dǎo)體泵，即氣體被壓縮之前的時(shí)間條件下稀釋到一個(gè)安全范圍內(nèi)。
4，真空泵和其它附件，過(guò)濾器，管，避免過(guò)壓的定期清洗：
真空半導(dǎo)體應(yīng)用期間，通過(guò)用真空泵將反應(yīng)室中的萃取介質(zhì)中，成分可以作為泵口形成SiH4和O2的SiO 2，四氯化鈦的水解將形成HCI是極其復(fù)雜的，例如;假設(shè)油封機(jī)械泵，這些氣態(tài)物種可以和抗油泵的發(fā)生。這些假設(shè)改變形式的顆粒，或可冷凝物的腐蝕性介質(zhì)，或真空泵可能堵塞管道系統(tǒng)，影響真空泵的性能，從而導(dǎo)致增加的壓力或超壓，稍微上述危險(xiǎn)更大。因此，需要及時(shí)清理，并必要時(shí)設(shè)置過(guò)濾設(shè)備。