真空泵廠家分析如何優(yōu)化真空壓力控制系統(tǒng)。真空泵廠家分析如何優(yōu)化真空壓力控制系統(tǒng)。芯片蝕刻工藝通常在受控的真空環(huán)境中工作。反應(yīng)空腔的功能是去除真空環(huán)境中保持工藝參數(shù)所需的不必要的水蒸氣、空氣和額外的反應(yīng)物質(zhì)。為等離子體發(fā)生反應(yīng)創(chuàng)建能夠的真空環(huán)境。為了降低蝕刻機真空壓力控制系統(tǒng)的成本，實現(xiàn)高真空獲取設(shè)備的清潔、簡化和小型化，同時為了提高真空系統(tǒng)的抽真空率和極限真空，系統(tǒng)中腔體、真空泵、連接管道和閥門的選擇非常重要。
為了確保蝕刻工藝所需的蝕刻機壓力的穩(wěn)定運行，大泵速真空系統(tǒng)是要求小于不可的組成部件。真空泵廠家詳細介紹了真空泵的反應(yīng)室、選擇、真空閥的選擇、真空計和真空檢測開關(guān)、真空計和真空檢測開關(guān)以及連接管道。
真空泵廠家分析如何優(yōu)化真空壓力控制系統(tǒng)。從以下五個方面展開:
(1)反應(yīng)腔
? ? ? ?反應(yīng)腔是真空系統(tǒng)的基本部件。不同的蝕刻反應(yīng)腔具有不同的形狀和尺寸，但是所有的屬于容器都處于負壓下。為了增加芯片容量，反應(yīng)腔體采用多工位設(shè)計，要求真空泵的泵速滿足其要求。在多工位設(shè)計中，很難保證多工位芯片的一致性。真空泵的泵送速率必須增加。分子泵是最好的選擇。根據(jù)不同工藝的需要，反應(yīng)室壓力一般的工作在10-3-10-2托之間。確保反應(yīng)室的真空度和壓力、確保、反應(yīng)室在穩(wěn)定真空下的工作一直是真空泵廠家的研究課題。
(2)真空泵選擇
真空泵是獲得真空的關(guān)鍵設(shè)備。到目前為止，還沒有一種泵能從大氣壓工作到接近超真空。兩個或多個泵必須組合使用和螺旋干式泵屬于容積泵類型。其工作循環(huán)可分為吸入、壓縮和排出三個過程。其優(yōu)點結(jié)構(gòu)穩(wěn)定，重心低，轉(zhuǎn)動穩(wěn)定，振動小，噪音低。分子泵包括牽引分子泵、渦輪分子泵和復(fù)合分子泵等。分子泵的選擇根據(jù)蝕刻反應(yīng)空腔壓力和體積而變化。
(3)真空閥選用選擇擺閥是為了滿足分子泵大口徑尺寸的需要。當(dāng)擺閥的開度大于反應(yīng)室的壓力時，其將減小。然而，當(dāng)開口大于某個程度時，反應(yīng)室的真空將由于泵的有限泵送速度而受到限制，并且壓力的真空將降低為不能繼續(xù)。因此，為了滿足壓力蝕刻工藝中的要求，需要正確打開選擇擺閥。
(4)真空計和真空檢測開關(guān)
真空計可以隨時監(jiān)控管道的反應(yīng)室和壓力。真空計安裝在反應(yīng)室和管道上。當(dāng)真空度達到一定值時，真空閥打開或關(guān)閉。真空計分類方法主要有兩種:①根據(jù)真規(guī)讀數(shù)的標(biāo)度方法進行分類，即絕對真空計和相對真空計;(2)根據(jù)真空計的測量原理進行分類，即直接測量真空計和間接測量真空計。薄膜電容真空計是一種間接絕對真空計。具有因其性能穩(wěn)定、重復(fù)性好、響應(yīng)速度快、抗過載能力強、結(jié)構(gòu)牢固、使用方便而被廣泛應(yīng)用于工業(yè)中。出于安全原因，真空管道必須配備大氣真空開關(guān)。當(dāng)壓力值達到一個大氣壓時，真空開關(guān)將自動打開排氣口，以保護反應(yīng)腔和管道系統(tǒng)的真空儀器。
(5)連接管
真空系統(tǒng)最重要的性能參數(shù)是它能獲得的極限真空度和反應(yīng)腔的有效泵送速度。真空系統(tǒng)的極限真空度是指在泵送時間足夠長的時間而沒有額外負載后，系統(tǒng)能夠達到的最低真空度壓力。
進口真空泵廠家表示，現(xiàn)象對于任何真空系統(tǒng)都絕對無泄漏，能夠?qū)崿F(xiàn)不可，因此需要在真空管路上提供檢漏口，以方便真空檢漏。